Optics-Hub / 旭量光学
旭量光学聚焦科研与工业光电系统
围绕飞秒激光直写、光谱测量与 UV 直写，提供系统选型、样品验证和工艺开发支持。
三大业务中心
典型应用场景
样品验证
在正式采购前确认材料窗口、结构可加工性和目标精度。
系统选型
根据加工深度、视场、速度、运动平台和光源需求判断设备路线。
工艺开发
围绕曝光、扫描、定位和检测环节建立可复用工艺方案。
系统能力与技术证据
系统能力
结合光源、运动平台、成像检测和软件控制形成完整交付方案。
实验验证
通过样品、案例和技术资料降低前期选型风险。
资料支持
提供产品资料、应用文章和测试建议，方便后续沟通。
核心产品与系统
FEMTO SLM多焦点改性隐切系统
10 W、515 nm 飞秒双光路加工平台：SLM 路径用于可编程多焦点、像差校正和三维光子结构，柱面镜路径用于稳定线焦点直写与高效率内部改性；SCA 软件统一管理配方、互锁、标定和过程追溯。
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FEMTO DMD飞秒激光线扫描TPP光刻系统
面向大幅面复杂三维结构的连续线扫描双光子光刻平台。DMD实时生成可编程灰度线焦点，配合高精度PSO定位和全带宽数据流，实现连续、低拼接缺陷的纳米制造。
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FEMTO LINE SCAN 100i 双光子线扫描微纳制造系统
以线照明时空聚焦、DMD 高速图形调制和多焦点灰度控制为核心，将三维微纳结构的数据处理、曝光、运动和工艺验证整合到同一平台。页面参数均为产品技术资料标称值，具体结果取决于物镜、材料、曝光策略和现场条件。
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FEMTO FBG 飞秒激光光纤光栅直写系统
面向通信、光纤传感、光纤激光与新型光栅研发的飞秒 FBG 工作站。系统把飞秒光源、显微聚焦、光纤定位/张力、偏振与功率控制、反射/透射谱监测及工艺软件组合为可配置平台；能力与参数均需按目标光纤和光谱要求确认。
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UV SCAN 100 无掩模紫外激光直写系统
面向高校、科研院所和企业研发部门的小批量微纳加工平台，以 405 nm 光源、声光调制、高精度振镜、精密运动与自动对焦为核心，适合光刻胶、玻璃片、晶圆和氛围敏感材料的图形快速迭代。页面参数来自授权画册，项目结果需通过样品验证确认。
查看产品产品与应用
从系统与应用案例开始选型
先浏览产品能力，再结合样品、工艺和验证方法查看应用案例；需要确认配置时，可继续提交方案需求。
把样品目标转化为可执行方案
告诉我们样品、应用目标和交付要求，旭量光学会协助匹配系统或工艺路线。
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